备，也是现阶段国产光刻攻坚的主战场。

从国产替代进度来看，干式设备已经完全实现自主可控，技术、产能、供应链都十分成熟。浸没式设备已经完成整机架构落地，现阶段主要迭代方向不是原理突破，而是长期量产稳定性、缺陷管控、良率优化等工程细节打磨。

未来几年，国内特色工艺、存储工艺持续扩产，浸没式光刻设备的国产化渗透率会持续快速提升，成为整条设备赛道最大的增量来源。

简单总结：空气介质定义成熟制程，水介