技术层面：上海光机所LPP-EUV光源能量转换效率达3.42%，接近商用水平的一半；哈尔滨工业大学DPP-EUV原型机计划三季度试产；上海微电子成功实现DUV光刻机国产化，28nm光刻机也已进入量产验证阶段等。
最后是需求层面：随着人工智能、5G通信、人形机器人等新兴领域的快速发展，市场对高性能芯片的需求呈现爆发式增长，从而刺激了各大厂家对高性能光刻机的需求，此外根据市场统计，2025年全球光刻机