近日新消息:北京大学彭海琳教授团队近期指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案，该成果已引起广泛关注。很可能催生新热点！！！目前板块涨幅前列！

核心突破内容如下：

- 技术手段：团队首次将冷冻电子断层扫描技术（cryo-ET）引入半导体制造领域，实现了对光刻胶分子在液相环境中微观三维结构、界面分布与缠结行为的原位、高分辨率观测。

- 科学意义：此前光刻胶在显影液中的微观行为是“黑匣子”，工业