新凯来（SiCarrier Technologies）是中国半导体设备领域的国产替代先锋，其光刻机技术突破直接冲击国际巨头垄断格局。新凯来的崛起标志着中国半导体设备从 “单点突破” 转向 “系统突围”。其 28nm 光刻机的量产验证和全流程设备矩阵，为国产替代提供了关键支撑；5nm DUA 技术的研发则展现了 “换道超车” 的战略野心。
新凯来的设备矩阵已覆盖半导体制造全流程，从逻辑芯片到量子计算