光刻胶（Photoresist）是一种用于半导体制造中的关键材料，它在光刻工艺中起到了重要的作用。光刻胶是一种特殊的敏化树脂，能够对紫外光或电子束等辐射进行化学反应，形成可控的图案。

国风新材：专注于高端薄膜材料的研发与生产20余年，在光敏聚酰亚胺（PSPI）光刻胶研发方面取得突破

国风新材于1998年11月19日在深圳证券交易所上市，公司主营业务为主要生产经营双向拉伸聚丙烯薄膜和双向拉伸聚酯