综合各方信息，可以得出这样的情况：相比 ASML 公司的光刻机，中国采用了一种名为国家大装置的设备，类似于光刻流水线。虽然原理相同，但设备全部更换。这一举措既能避免很多专利陷阱，又不需要高度集成设计。最重要的是，良率的概念也不适用于这个国家大装置。 [图片]

过去说无法实现极紫外光刻机(EUV)的主要原因是光源无法小型化，这是一个巨大的难题。但现在这个难题不再存在，我们可以直