光刻机大致分为两类：
1）DUV深紫外线光刻机：可以制备0.13um到28/14/7nm芯片；
2）EUV极紫外线光刻机：适合7nm到5/4/3nm以下芯片。
目前情况下DUV光刻机并不限制中国，还在正常供应，因为供应商主要来自于欧洲荷兰的 ASML 以及日本Nikon、佳能，并不直接受美国禁令，但EUV目前并未买到。
回顾光刻机的历史，我们发现：DUV技术由日本和荷兰独立发展：自2006年超越尼