半导体设备行业快报:浸润式光刻机进口处处受限,静待28nm光刻机王者归来
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事件点评
据21ic电子网7月31日消息,上海微电子正致力于研发28nm浸没式光刻机,预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。
一超两强格局稳定,中国浸润式光刻机进口处处受限。根据各公司官网数据统计,2022年 ASML 、Cannon、Nikon光刻机销量分别为345、176、38台,ASML光刻机销量远超其余两家之和,为Ca
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据21ic电子网7月31日消息,上海微电子正致力于研发28nm浸没式光刻机,预计在2023年年底将国产第一台SSA/800-10W光刻机设备交付市场。
一超两强格局稳定,中国浸润式光刻机进口处处受限。根据各公司官网数据统计,2022年 ASML 、Cannon、Nikon光刻机销量分别为345、176、38台,ASML光刻机销量远超其余两家之和,为Ca
