台积电即将量产全球最先进的 5nm 工艺技术，在摩尔定律看似顺遂推进下，材料技术发展的重重阻碍却在台面下暗潮汹涌。

2019 年于美国硅谷登场的一场半导体光刻技术研讨会中，业界就提出半导体工艺蓝图虽然在未来 10 年可以一路推进至 1nm，却可能因光刻胶材料的瓶颈，让工艺发展到 3nm 节点时就出现警讯。

这揭示着要延续摩尔定律的生命，需要整个半导体产业链中的材料、设备、制造等各个细分领域齐心