新莱应材irm3409706董秘，您好。目前国内半导体芯片国产替代如火如荼，公司有没有考虑利拓展半导体芯片光刻机，拓宽业务领域做大做强，也为国争光。

02-19 16:48

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新莱应材您好，公司一直致力于芯片前制程超高纯气体系统的化学气象沈积与干式刻蚀机里的关键零部件，除以上制程外，我们也同时关注新制程的改变带来的冲击，如目前 7nm 以下的制程上我司产品已经突破国内现有